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光刻膠是一種高分子化合物，主要用于微電子制造中的光刻工藝。光刻膠的質量直接影響了微型器件的性能和穩(wěn)定性，因此需要嚴格控制其生產過程中的溫度和壓力。

客戶是一家從事半導體材料研發(fā)和生產的企業(yè)，客戶在生產光刻膠時，需要使用高溫高壓的反應釜。光刻膠防爆模溫機是一種用于高溫高壓環(huán)境下的溫度控制設備，具有整機隔離式防爆 EXdII BT4，符合國際標準，可以在易燃易爆的場所安全使用。PLC編程控制，可以根據不同的工藝要求設定溫度、壓力、流量等參數。

帶冷卻功能，可以在反應放熱時及時降低溫度，避免過熱或燒壞設備。

設計1 平方( 板式換熱器 )，可以提高換熱效率，節(jié)省能源和空間。

使用時需要將原料加入反應釜中，啟動光刻膠防爆模溫機，設定溫度為150度，開始反應過程，光刻膠防爆模溫機通過循環(huán)泵將熱油輸送到反應釜中，提供所需的熱量。

反應期間，光刻膠防爆模溫機通過PLC控制系統實時檢測反應釜內的溫度、壓力、流量等數據，并根據設定值進行調節(jié)。

當反應放熱時，光刻膠防爆模溫機通過冷卻水將多余的熱量帶走，保持反應釜內的溫度穩(wěn)定。反應完成后，關閉光刻膠防爆模溫機，將光刻膠從反應釜中取出。

光刻膠防爆模溫機是一種適用于高溫高壓環(huán)境下的溫度控制設備，它可以有效地滿足光刻膠生產的要求，提高產品的質量和效率。